Þessi leysirisi fékk leynilega heimsókn frá forstjóra TSMC

Samkvæmt fréttum í kóreskum fjölmiðlum heimsótti TSMC forstjóri Wei Zhejia höfuðstöðvar ASML í Hollandi þann 26. maí og heimsótti á sama tíma iðnaðar leysirisann 100 ára af þýska Tonspeed.
Christophe Fouquet, forstjóri ASML, og Nicola Leibinger-Kammüller, forstjóri Thomson, upplýstu um dvalarstað Wei í gegnum samfélagsmiðla.
Sagt er að TSMC sé að íhuga að kynna High NA EUV búnað fyrir 1,6nm ferlið eftir A16, sem á að fara í magnframleiðslu á seinni hluta ársins 2026, og nota núverandi Low NA EUV búnað fram að þeim tíma, sem er mikilvægt fyrir sub -2nm flísarferli.
Samkvæmt nýjustu fréttum, nýja High NA EUV steinþrykkja framleiðsluhraði ASML er 400 til 500 oblátur á klukkustund, núverandi staðlaða EUV 200 oblátur á klukkustund 2-2.5 sinnum hraðinn, það er aukning um 100% í 150% sem mun auka framleiðslugetu enn frekar og lækka kostnað.
Á síðasta ári var Intel fyrst í greininni til að fá ASML fyrir sérsniðna hönnun sína á nokkrum High NA EUV búnaði. Iðnaðurinn býst nú við að Intel nýti þessa nýju kynslóð steinþrykks að fullu í 14A (1,4nm) hálfleiðaraferli sínu.
Áður hafði TSMC fyrir sitt leyti sagt að það myndi ekki kaupa nýjasta High-NA EUV búnað ASML, sem það taldi of dýrt til að vera efnahagslegt skynsamlegt fyrr en árið 2026, en sú hugmynd virðist vera að hverfa núna.
Aðalsöguhetja þessarar leynilegu heimsóknar var ekki aðeins ASML, heldur einnig leysirisinn TRUMPF frá Þýskalandi. TRUMPF var stofnað árið 1923 og fagnaði 100 ára afmæli sínu á síðasta ári.
Trumpf Group er eini framleiðandinn í heiminum sem getur útvegað ljósgjafa fyrir mjög útfjólubláa (EUV) lithography. Þess vegna er EUV steinþrykkjaviðskipti einnig ein af áherslum þróunar Trumpf um þessar mundir.
Reyndar hefur Trafigura fjárfest í steinþrykkjaleysisframleiðslukerfum í meira en 16 ár. Frá árinu 2005 hefur Trafigura verið í samstarfi við Cymer Inc. í Bandaríkjunum og hefur haldið áfram að dýpka samstarfið eftir að Cymer var keypt af ASML. Í þessu skyni hefur TRUMPF stofnað sérhæft dótturfyrirtæki, TRUMPF Lasersystems for Semiconductor Manufacturing, með áherslu á þróun og framleiðslu á EUV leysigeislum. Árið 2015 pantaði ASML 15 EUV steinþrykkverkfæri frá TRUMPF, sem merkir EUV steinþrykkjaviðskipti sem miðpunkt þróunar Thomson.
Samkvæmt áður tilkynntri skýrslu Trafigura fyrir reikningsárið 2022/2023 (sem lýkur 30. júní 2023), náði heildarsala 5,4 milljörðum evra, sem er 27% aukning á milli ára.
Þar á meðal nam sala EUV-viðskipta 971 milljón evra, sem er 22,2% aukning á milli ára. Aðallega til að útvega mjög útfjólubláa (EUV) tæki bjóða upp á ofur-mikil afl koltvísýrings leysira sem notaðir eru til að knýja EUV losun í risastóru steinþrykkverkfæri uppsprettueiningu ASML.
Fyrir landið okkar er enn ekkert fyrirtæki sem getur fjöldaframleiðslu á EUV steinþrykk ljósgjafa. Hins vegar, samkvæmt nýjustu fréttum, þann 14. maí, hefur Shanghai Institute of Optics and Precision Machinery of the Chinese Academy of Sciences (SIPM), í tengslum við Harbin Institute of Technology (HIT) og Shanghai Institute of Technology (SIT), sló í gegn á sviði Extreme Ultraviolet (EUV) og mjúkra röntgengeisla og hefur með góðum árangri áttað sig á burðarvirki hvirfilljósamótunarinnar. Þessi tímamótaframfarir, markar ekki aðeins öfgafulla útfjólubláa ljósgjafatækni Kína hefur tekið lykilskref fram á við, fleiri innlendar steinþrykkjarannsóknir og þróun hefur hreinsað kjarnatæknihindranir.
Að auki taka sum innlend fyrirtæki, eins og AOP Optronics, Fujing Technology, o.s.frv., einnig virkan þátt í þróun og framleiðslu á ljósmyndatengdri tækni. Meðal þeirra er stór hluthafi AOP photoelectric Changchun Institute of Optical Machinery í kínverska vísindaakademíunni, sem tekur þátt í innlendum steinþrykk ljósgjafa, sjón hluti af R & D vinnu;
Og Fuching Technology er tæknilegur einhyrningur steinþrykkja andstreymis efna undir CAS, sem hefur þróað KBBF, ólínulegt optískt kristalefni, fullu nafni KBeNbBFO, sem getur breytt leysiljósi í djúpt útfjólublátt leysiljós með 176nm bylgjulengd.
Þessi djúp-útfjólublái leysigeisli hefur einstaklega mikla orku og mjög mikla styrk, svo það er hægt að nota hann til að búa til djúp-útfjólubláa solid-state leysira. Og á sviði flísaframleiðslu getur það bætt nákvæmni núverandi ljóslitafræði um meira en 10 sinnum og þannig bætt skilvirkni og nákvæmni flísaframleiðslu til muna.
Á þessari stundu, þó að þessar innlendu framfarir hafi ekki enn náð fjöldaframleiðslu á EUV lithography ljósgjafa, hafa þær lagt grunninn að frekari þróun Kína á sviði steinþrykkjatækni.